9月28日,据财闻海外资讯,三星电子会长李在镕、SK集团会长崔泰源与英伟达(NVDA.US)CEO黄仁勋计划于28日18时在纽约韩国协会年度晚宴会面,距三人上次会面已约两个月。
HBM是本次会面主要关注点。AI加速器性能提升使HBM成决定英伟达下一代产品性能的核心零部件。三星与SK海力士(SKHY.US)正搭建联合研发HBM4E、HBM5等后续产品的合作框架,适应GPU与HBM协同设计模式转变。三星2月已实现HBM4大规模出货,5月向客户送出12层HBM4E样品,计划拓展定制化HBM业务;6月三星DS副会长全永铉与黄仁勋已探讨下一代HBM长期合作。
会面还可能涉及三星晶圆代工及先进封装优势业务,三星望切入AI芯片全链条生产。部分观察人士预计,合作范畴还可能延伸至芯片生产基地AI转型及机器人等实体AI领域。SK集团与英伟达合作已延伸至AI基础设施,SK电信计划基于英伟达平台建设最高2吉瓦规模AI工厂,计划2027年分阶段投入运营;三星同样和英伟达共建部署超5万颗英伟达GPU的巨型AI工厂。
保障内存供应链稳定对英伟达愈发关键,掌握英伟达中长期产品策略亦为三星、SK海力士决定HBM投资规模核心变量。本次会面大概率复盘已达成项目落地进度,并探讨更长远的规划。
特别声明:以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布,本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.