北京
国家知识产权局信息显示，上海申菲激光光学系统有限公司申请一项名为“一种抛光设备控制方法”的专利，公开号CN122807763A，申请日期为2026年8月。
专利摘要显示，本申请提供了一种抛光设备控制方法，涉及抛光设备领域，所述方法基于历史损伤场、以当前时间点为结束时刻的预设时间段内流出抛光液的固体颗粒浓度变化曲线和特征修正模型，获取每一类物理信号对应的特征修正参数；对抛光过程中采集到的多物理信号中的每一类物理信号进行特征提取，以获取每一类物理信号对应的初始特征向量；基于特征修正参数对初始特征向量进行更新，以得到目标特征向量；基于每一类物理信号对应的目标特征向量和损伤场预测模型，获取当前时间点对应的预测损伤场；基于当前时间点对应的预测损伤场，获取优化工艺参数调整指令，并根据该优化工艺参数调整指令控制抛光设备；提高了抛光效率与被抛光工件的表面质量。
天眼查资料显示，上海申菲激光光学系统有限公司，成立于1999年，位于上海市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本687.5万人民币。通过天眼查大数据分析，上海申菲激光光学系统有限公司参与招投标项目2次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息57条，此外企业还拥有行政许可5个。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
