北京
国家知识产权局信息显示，TCL华星光电技术有限公司申请一项名为“光学膜及其材料体系、偏光片和显示装置”的专利，公开号CN122815585A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本申请公开了一种光学膜及其材料体系、偏光片和显示装置，光学膜包括基材层和位于基材层的一侧的低反射层，基材层和低反射层的折射率不同。其中，低反射层中包含氨基甲酸酯键、硅氧烷键、碳硅键、氟碳键和酯基中的至少一种，光学膜对可见光波段的光的反射率均小于2.5%，且所述光学膜对所述可见光波段的光的平均反射率小于或等于0.5%。本申请可以降低光学膜对整个可见光波段的光的反射率。
天眼查资料显示，TCL华星光电技术有限公司，成立于2009年，位于深圳市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3308123.474578万人民币。通过天眼查大数据分析，TCL华星光电技术有限公司共对外投资了22家企业，参与招投标项目268次，财产线索方面有商标信息335条，专利信息12924条，此外企业还拥有行政许可404个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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