北京
国家知识产权局信息显示，拓荆科技（上海）有限公司取得一项名为“一种提升罐内化学源工艺稳定性的结构”的专利，授权公告号CN224798972U，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本实用新型公开了一种提升罐内化学源工艺稳定性的结构，包括：液体容器、液位检测结构、控制结构、搅拌结构；所述液体容器上设有进口和出口，所述搅拌结构的一端插设在所述液体容器内，所述液位检测结构与所述控制结构连接；所述控制结构与所述搅拌结构连接。通过实施本实用新型的结构可实现提升罐内化学源工艺稳定性，以解决在长时间运行过程中，随着液态前驱体的消耗导致液面下降和容器内上方空间增大，影响前驱体的蒸汽压和输送效率，进而对原子层沉积工艺的稳定性和薄膜质量产生的不利影响。
天眼查资料显示，拓荆科技（上海）有限公司，成立于2020年，位于上海市，是一家以从事零售业为主的企业。企业注册资本283508.77万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆科技（上海）有限公司参与招投标项目54次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息457条，此外企业还拥有行政许可45个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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