北京
国家知识产权局信息显示，浙江方华化学有限公司取得一项名为“一种去除间三氟甲基苯乙酮中机械杂质的装置”的专利，授权公告号CN224793039U，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本实用新型涉及应用于除杂装置领域的一种去除间三氟甲基苯乙酮中机械杂质的装置，本方案中设备启动后，间三氟甲基苯乙酮原料首先进入除杂设备罐中并贯穿辅助进液组件的注液搅液管道，辅助进液组件的螺旋导流叶片杆可搅拌原料，打破杂质团聚体，使原料均匀流入预处理组件，提升后续处理效果，预处理组件的环形电性导轨驱动联动强磁外部条杆，带动内部金属层环动圈转动，配合多组旋转交错的电性磁棒形成动态磁场网，全面吸附铁磁性杂质，提高杂质分离效率，降低罐内磨损以及停机风险，设备组件的粗过滤仓拦截较大颗粒杂质，细过滤仓通过多级滤芯清除细微杂质，超声波过滤仓完成深度过滤，确保产品纯度。
天眼查资料显示，浙江方华化学有限公司，成立于2021年，位于绍兴市，是一家以从事批发业为主的企业。企业注册资本30000万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江方华化学有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目7次，专利信息14条，此外企业还拥有行政许可52个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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