北京
国家知识产权局信息显示，佳木斯东鑫德泰科技有限公司申请一项名为“一种室温可反应型含氟硅光亮半永久型脱模剂及其制备方法”的专利，公开号CN122808108A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，一种室温可反应型含氟硅光亮半永久型脱模剂及其制备方法，它涉及一种室温可反应型脱模剂及其制备方法。本发明的目的是要解决现有脱模剂存在一模一涂、需高温固化，导致生产效率低和成本增加的问题。一种室温可反应型含氟硅光亮半永久型脱模剂，按质量分数由30%~80%溶剂、10%~30%助成膜剂、10%~20%促铺展剂、1%~10%成膜剂和0.1%~2%催化剂制备而成；成膜剂为甲氧基封端有机硅树脂和氟硅树脂。本发明利用溶剂的快挥发性，同时在助成膜剂和促铺展剂的协同作用下，使成膜剂在催化剂的作用下在模具表面形成均匀致密、低表面能的聚合物膜层，从而实现“一次涂覆、多次脱模”。本发明提高了生产效率，节约了成本。
天眼查资料显示，佳木斯东鑫德泰科技有限公司，成立于2025年，位于佳木斯市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本200万人民币。通过天眼查大数据分析，佳木斯东鑫德泰科技有限公司专利信息1条。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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