北京
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国家知识产权局信息显示，科磊股份有限公司申请一项名为“用于CMP的稳健且精确的叠对靶材设计”的专利，公开号CN122826522A，申请日期为2025年3月。
专利摘要显示，一种计量系统可接收叠对靶材的靶材布局的多个候选设计变化。计量系统可确定当使用已知制造工艺制造时所述多个候选设计变化的一或多个工艺诱发靶材缺陷。计量系统可确定当使用已知计量配方测量时与所述多个候选设计变化的所述一或多个工艺诱发靶材缺陷相关联的一或多个工艺诱发叠对误差。计量系统可从所述多个候选设计变化选择最终设计变化，其提供基于所述一或多个工艺诱发叠对误差的最小汇总叠对误差。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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