北京
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国家知识产权局信息显示，万腾荣先进材料德国有限责任公司申请一项名为“用于溅射反射率提高的层的Ag基合金溅射靶材”的专利，公开号CN122826347A，申请日期为2025年2月。
专利摘要显示，本发明涉及一种溅射靶材及其制备方法和通过溅射所述靶材获得的层，溅射靶材基于银（Ag）并包含一种合金金属和少量铝（Al），合金金属选自由铟（In）、锡（Sn）、锑（Sb）和铋（Bi）组成的组。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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