北京
国家知识产权局信息显示，江苏优众微纳半导体科技有限公司申请一项名为“径深耦合自适应梯度拓扑优化的超透镜可制造逆设计方法”的专利，公开号CN122815691A，申请日期为2026年8月。
专利摘要显示，本发明公开了一种径深耦合自适应梯度拓扑优化的超透镜可制造逆设计方法，包括：固化超透镜半导体加工工艺约束参数，自适应锁定纳米柱可加工阈值范围；基于固定周期下开口宽度与局部填充密度，构建半径与刻蚀深度负相关耦合物理模型；确定超透镜联合优化变量；搭建多约束协同优化目标函数，融合光学相位误差损失、径深工艺偏差损失、半导体加工工艺约束惩罚损失三类损失项；采用改进L‑BFGS梯度迭代算法，对所有优化变量进行自适应迭代更新，迭代过程中实时校验工艺约束阈值；当满足预设迭代收敛条件时，终止优化迭代，输出全部合规纳米柱结构参数，直接生成标准化GDS版图文件。本发明实现了超透镜光学成像性能与半导体加工可行性的全局双重最优。
天眼查资料显示，江苏优众微纳半导体科技有限公司，成立于2023年，位于南通市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本16204.706万人民币。通过天眼查大数据分析，江苏优众微纳半导体科技有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目10次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息67条。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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