四川
LLL有三片完美晶体。第一片把入射束Bragg衍射成透射、反射两路，第二片转向，第三片合束干涉，像光学马赫-曾德尔。 输出O束、H束强度随相位差变。放样品、加外场、转相旗都改相位。相旗横跨两路，旋转改变有效厚度，强度出现条纹。条纹对比度即可见度，理想100%，实际受缺陷、应变、粗糙、失配、吸收和噪声影响。
完美晶体里，X射线或中子满足Bragg条件后，能量在透射束和衍射束间周期交换，这叫Pendellösung效应。 硅(220)反射、1.3 Å中子，Δ_H约110 μm。厚度取特定倍数，可设计成全透射、全反射或50/50分束。 过去晶体太厚，跨过很多交换周期，厚度不好用。110 μm进入单Pendellösung长度区，厚度本身成了量子光学分束参数。
1965年Bonse和Hart做出X射线LLL干涉仪，1970年代中子版发展，Momose把分析叶片减到40 μm，NIST 870 μm达92%对比度。 舞台多在欧美日的中子源和同步辐射装置。中国在补：CSNS、CARR、SSRF、HEPS、SHINE，以及硅片减薄、CMP、精密抛光。 但科学级完美晶体干涉仪是另一精度层级。要大尺寸无缺陷硅、三片等厚、平方厘米均匀相位、隔振温控、相位调制、低噪声探测。打通后，CSNS中子束、HEPS/SHINE相干X射线就能承接这类实验。中子EDM、自旋-轨道、相位衬度成像，中国不会只是观众。 110 μm不是炫技。它把完美晶体干涉仪从“厚晶体平均效应”带进“厚度可工程设计”区间。对成像，减少模糊；对量子光学，提供分束旋钮；对基础物理，给多叶片中子干涉仪铺路。从晶体衍射到宇宙物质-反物质不对称，110 μm硅片，正压缩这段距离。
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