北京
【CNMO科技消息】CNMO科技从韩媒获悉，三星显示正在评估一种名为半色调黑色PDL的OLED工艺材料，该技术可将黑色像素定义膜与间隔物通过一次光刻工艺同时形成，从而减少光掩模使用数量，降低无偏光板OLED工艺的生产成本。
三星
无偏光板技术是在OLED上部直接形成彩色滤光片和外部光反射抑制结构，从而取消传统偏光板。该技术可使面板更薄并提升光效率，但需要额外的光刻工艺来图案化彩色滤光片等结构。三星显示自Z Fold6起已采用去除彩色滤光片层黑色矩阵的无偏光板结构，目前该工艺共使用6种光掩模，分别用于像素定义膜、间隔物、红绿蓝光刻胶及覆盖层等环节。
半色调黑色PDL的核心在于将像素定义膜与间隔物的光刻工序合二为一。黑色PDL用于区分OLED各像素区域并吸收外部光线以减少反射，间隔物则以高于黑色PDL的凸起结构维持面板内部上下结构之间的间距。现有工艺需分别使用不同材料和光掩模来形成这两种结构，而半色调方式在涂布单一材料后，通过一张掩模即可同时形成高度不同的两种结构。
其关键在于调节掩模的光透过量。半色调工艺将掩模透过率设定为0%、20%至50%、100%三个等级，使不同区域材料接受的光量不同，进而产生不同的固化程度，最终在一次光刻中实现高度各异的像素定义膜与间隔物。由于光刻工艺包含涂布、曝光、显影等连续步骤，整合后可减少工序次数、设备占用时间及材料用量，从而缩短生产时间并降低制造成本。采用该技术后，无偏光板工艺的光掩模种类可从6种减少至5种。
三星显示研究中心
据悉，三星显示已针对三星旗舰智能手机用OLED评估了半色调黑色PDL的应用可能性，并考虑将其用于明年发布的S27 Ultra。在出货量较大的旗舰产品上应用该技术，有望进一步放大光刻工序减少带来的成本节约效果。
当前的关键挑战在于良率。传统方式可分别对黑色PDL和间隔物进行优化，而半色调方式需用单一材料和一次曝光同时满足两者的厚度与高度要求。若厚度偏差或图案不良增加，可能抵消工序减少带来的成本收益。
业界相关人士表示，该技术已针对三星电子Ultra系列智能手机完成评估，下一代产品也在持续研讨中，明年产品是否采用将取决于工艺稳定性与良率评估结果。
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