北京
全球光刻机市场，ASML一家占了90%。这个数字意味着什么？意味着几乎所有先进芯片的制造，都绕不开这一家荷兰公司。而现在，一家此前鲜为人知的中国国企，正在尝试撬动这块铁板。
据相关报道，中国已开始量产浸没式深紫外（DUV）光刻机。这类设备是制造半导体不可或缺的关键装备，而半导体又驱动着全球最先进的电子设备。推动这件事的主体，是一家名为上海爱晟纳电子科技集团的国有企业——在公众视野里，这个名字此前几乎没什么存在感。
更值得注意的是产能规划：2026年计划造5台，2027年造20台。从个位数到两位数，这个爬坡节奏本身就说明了态度。
为什么非要自己造
事情的起点是限制。2023年，荷兰政府在美国压力下对光刻设备出口设限，2025年限制进一步收紧。同样在2025年，美国的限制措施还导致英伟达的AI显卡在中国被禁售。这一连串动作，把中国芯片制造的供应链安全推到了台前。
对中国的芯片产业来说，成熟制程的完全自主因此变得格外重要。美国主导、荷兰政府执行的这些限制，被视作一种政治操作，影响的不只是中国的技术出口。
2025年10月，美国众议院中国问题特别委员会公布了一项历时数月的调查结果，指出有ASML生产的设备被出售给与中国军事发展有关联的公司，并强调这对美国国家安全构成风险。ASML方面迄今的立场是：只遵守出口法规。
如果地缘政治环境沿着当前轨迹继续走下去，更严格的限制可能会把中国芯片制造供应链与ASML这样的西方公司彻底切断。这正是中国加速自研光刻机的现实背景。
DUV和EUV差在哪
需要说清楚的是技术代差。中国目前能够制造的，是DUV光刻机。而ASML生产的EUV（极紫外）光刻机，在现代标准芯片制造中的效率要高得多。
具体来说，DUV设备可以生产7纳米或更小的芯片，EUV设备做同样的事效率要高得多。ASML还是全球唯一能制造EUV光刻机的厂商，这类设备用于高效生产7纳米及以下的芯片。
但差距并非遥不可及。中国已经成功设计出一台EUV光刻机原型机。如果这项技术能够应用到量产环节，中国将真正有机会终结ASML在国际市场上的垄断地位。
还有一个容易被忽略的方向：中国也在试验光子芯片制造。这种技术用光而不是电来工作，不仅对环境更友好，速度也比传统芯片更快、性能更强。这或许说明，芯片的未来不只是"用电"这一种答案。
短期威胁有限，长期变量很大
回到现实层面。中国在国产光刻机制造上确实在快速推进，但目前没有任何迹象表明，中国会立即对ASML的市场份额构成威胁。中国与西方技术的距离不算远，但也没到贴身肉搏的程度。
不过，这项突破的长期意义可能超出光刻机本身。中国政府的动作不止于一家企业——它还在把其他中国半导体初创公司的人才，向上海爱晟纳这家公司集中。这种"人才整合"的打法，说明这不是一次孤立的技术攻关，而是一次有组织的资源调配。
从2023年的出口限制，到2025年的进一步收紧和显卡禁售，再到2026年5台、2027年20台的产能目标，这条线索串起来看，逻辑很清晰：外部压力越大，内部替代的动力就越强。ASML的90%市场份额短期内不会动摇，但一个从零起步的替代方案，已经进入了量产倒计时。
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
