北京
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IT时代网9月17日消息，2nm是当前最顶级的半导体工艺，如今一款名为GT2N PDK的2nm工艺设计套件已经开源，普通人和普通企业也能免费学习相关的设计方法。
这套开源套件不只面向2nm工艺本身，还集成了GAAFET晶体管与BSPDN背部供电技术。相比传统平面晶体管，GAAFET让栅极从四面包裹沟道，BSPDN则把供电线路移到晶圆背面，两者都是2nm世代的关键技术路线。
PDK一共提供72个标准单元，包含晶体管模型、标准单元以及LEF、LIB、DRC、LVS等文件，用于告诉电子设计自动化工具该如何绘制和检查2nm工艺版图，以及该工艺具备怎样的性能。
开源之后，普通企业也能着手研究2nm GAAFET工艺的设计与算法。不过这套PDK替代不了晶圆厂的官方PDK，也绕不开各类知识产权，想借此真正做出商用2nm芯片并不现实，其价值更多体现在研究与学习层面。
注：本文中包含AI辅助创作的内容。
编辑：林一舟
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