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维信诺申请离子注入设备及其控制方法专利,提高了半导体器件的稳定性

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国家知识产权局信息显示,合肥维信诺科技有限公司申请一项名为“离子注入设备及其控制方法、离子注入系统”的专利,公开号CN122762550A,申请日期为2025年3月。

专利摘要显示,本申请公开了一种离子注入设备及其控制方法、离子注入系统。离子注入设备包括工艺腔室、储备腔室、真空连接管道、阀门装置、真空度传感装置和控制装置,工艺腔室为真空腔室;储备腔室的数量为多个,储备腔室为真空腔室,储备腔室的真空度大于工艺腔室的真空度;多个储备腔室均通过真空连接管道与工艺腔室连接;阀门装置设置在真空连接管道上,阀门装置用于控制工艺腔室与储备腔室的连通状态;真空度传感装置设置在工艺腔室内,真空度传感装置用于监测工艺腔室的真空度参数;控制装置分别与阀门装置以及真空度传感装置电连接,控制装置用于根据真空度参数调整阀门装置的打开或关闭,以及储备腔室的连通数量。本申请提高了半导体器件的稳定性。

天眼查资料显示,合肥维信诺科技有限公司,成立于2018年,位于合肥市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2200000万人民币。通过天眼查大数据分析,合肥维信诺科技有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目997次,专利信息4629条,此外企业还拥有行政许可43个。

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本文源自:市场资讯

作者:情报员

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