对华打响第一枪！韩国封杀核心技术，妄图彻底掐断中国芯片退路

9 月 13 日，韩国新版间谍相关刑法修正案正式落地，半导体、动力电池、人工智能全部被划入国家机密保护范畴，泄露相关机密最高可判处 30 年有期徒刑。法条文本没有点名中国，但韩国警方公开数据显示，去年查获的跨境技术泄露案件之中，一半都和中国相关。

可单凭一部法律，真的就能掐断中国半导体的追赶退路？现实来看，更大的可能性，是搬起石头，先砸了自己的脚。

首尔动手，新法因何而来

这部新法出台最直接的导火索，就是轰动韩国的三星技术外泄案。

今年 4 月，首尔中央地方法院完成判决：一名前三星电子研究员，把三星投入 1.6 万亿韩元研发的 10 纳米级 DRAM 工艺泄露给中国存储企业长鑫存储，个人获利 29 亿韩元，包括合同奖金与认股权，法院判处其 7 年监禁。同案另一名三星前高管金某，跳槽长鑫存储之后泄露 18 纳米 DRAM 的 7 项核心工艺资料，重审获刑 6 年 4 个月，罚金 2 亿韩元。

法院裁定，这类行为会严重损害韩国国家产业竞争力。但放在旧法律框架下，这类商业技术泄密，无法适用间谍罪，只能依靠《产业技术保护法》追责，过往普遍量刑偏轻，大量案件最终以缓刑、短期刑期收尾，威慑力严重不足。韩国不少法学教授长期公开批评旧法漏洞太大，难以守住本国核心技术。

新版法条试图补上这个漏洞，但它设置了两道硬性举证门槛：检方必须证明，泄露信息属于国家机密，同时嫌疑人存在和外国的明确关联关系。

这里存在一个关键模糊点：企业的国家核心技术 ≠ 法律定义上的国家机密。三星 DRAM 工艺，个案当中被法院认定属于国家机密；可换到其他企业、其他技术项目，边界如何判定，没有清晰统一标准。法条写得严苛，司法执行未必能跟上。

更现实的矛盾在于侦查力量的缺口。2024 年韩国国情院移交了大量反间谍调查权限；今年 7 月，承担军地反谍职能的国防反间谍司令部正式解散重组，职能被拆分到多个新机构，短期内情报搜集、跨部门协作都要重新磨合中国军网。

法律条文完成更新，但配套调查力量被削弱。

这部新法，政治信号意义，实际大于立刻落地的执法效果。它更多是首尔对外释放强硬姿态，而非一套已经打磨完备、可以高效运转的执法工具。

进退两难，暴露韩国深层焦虑

抛开表面强硬，新法背后，是韩国半导体产业挥之不去的焦虑。

三星、SK 海力士，长期把持全球存储芯片市场的主导地位。但长鑫存储、长江存储持续迭代，市场份额差距不断收窄；我国十五五规划，已经把集成电路关键核心技术攻关列为重点攻坚方向。

韩国有教授直白评价：中国半导体崛起，依托的是国家级大规模投入与本土工程能力的持续提升，产业走到今天是必然趋势；技术人才外流，只是加快了进程而已。这句话承认两个事实：追赶是大势所趋，法律只是事后补救手段。

与此同时，韩国还被美国的管制牢牢捆住。美国商务部长多次公开施压，要求三星、SK 海力士扩大美国本土建厂产能。三星、SK 海力士在中国西安、无锡、大连建有大型工厂，生产高度依赖美国半导体设备。2025 年美国撤销两家企业的 VEU 豁免资格，2026 年虽然重新发放许可，但改成一年一审，韩国企业每年都要争取美国审批，才能维持中国工厂正常运转环球时报。

这就造成无比尴尬的局面：韩国一方面需要配合美国芯片管制节奏；另一方面，又极度离不开中国市场与中国产线。韩国官方出口统计，2026 年 6 月半导体出口 448 亿美元，占到本国总出口 43.8%；单单中国大陆与香港地区，当月就吸纳 172 亿美元韩系半导体产品。SK 海力士 3‑4 成的 DRAM、NAND 产能布局在中国；三星三分之一 NAND 闪存产自中国工厂新浪财经。

生产基地在中国，最大消费市场在中国，设备技术许可却要看美国脸色。

韩国想用法律锁死技术外流，却忽略自身企业深陷其中。一旦国家机密的解释尺度放开，三星、SK 海力士在华的投资、供应链往来、正常人员流动、设备维护合作，都有被卷入调查的风险。

企业最惧怕的不是市场竞争，而是规则不确定性。今天可以调查半导体行业，明天就可以延伸到动力电池；今天可以针对对接中资的人员，未来任何一家和中国开展业务的韩国企业，都可能笼罩在法律风险之下。经营成本、合规成本会直接抬升。

所以这部新法，算不上所谓 “对华第一枪”，本质上是芯片博弈当中韩国的自保之举。自保做得得当，是产业护城河；尺度失衡，最先困住的反而是本国企业。

中国不慌，走好自己的节奏

面对韩国修法，中方外交部回应简洁清晰：各国应当保障企业正常投资经营，提供公平公正、非歧视的营商环境。言外之意，不接受拿司法立法当作工具，定向针对特定国家市场主体。

外部加码的同时，国内半导体自主化进程正在提速。高端芯片设计制造能力稳步提升，先进封装、存储器领域持续突破。上半年国内头部晶圆代工企业产能利用率维持在 90% 以上。

值得留意的产业信号：三星、SK 海力士已经在评估国产中微半导体蚀刻设备，计划作为中国工厂的备选方案，国产设备相较海外供应商，价格可以低 20%‑30%。国内首条二维半导体工艺线也已经完成贯通。

外部封锁压力越大，国产替代的内生动力就越强。过去韩国企业没有太强意愿切换国产设备；而现在美国年年审批卡脖子，叠加韩国国内新法层层加码，企业会主动权衡风险，寻找备选供应链。

我们不必被韩国的立法动作打乱脚步。真正要做的，是踏踏实实补齐设备、材料、设计、制造全链条短板。越是被外部试图掐断退路，越要把退路转化为向前突围的前路。这不是口号：多年持续投入、人才回流、产业链配套，国内半导体已经来到能力跃升的临界点。

严苛法律，能够震慑个别贪图高额报酬的技术人员，却拦不住一整个产业体系的迭代进步。

后记

韩国此次间谍法修订，是 73 年来最大一次改动，打击对象从朝鲜扩展至全部外国主体，量刑空前严厉。但落地现实面前横亘两道现实门槛：

1. “国家机密” 界定模糊，检方完整举证难度很高；
2. 反间谍机构经历大规模重组，调查能力短时间难以匹配新法要求。

法条写得凶狠，不等于现实当中就能顺畅执行。

对于中国而言，不必过度解读韩国这部法律的指向。大国产业比拼是一场长跑，与其盯着对方出台什么样的防御法案，不如埋头办好自己的产业。谁产业链自主可控度更高，营商环境更开放稳定，谁才能走到博弈的最后。