北京
国家知识产权局信息显示，四川阿法龙光电科技有限公司申请一项名为“一种超薄光刻胶晶圆旋涂工艺”的专利，公开号CN122755339A，申请日期为2026年8月。
专利摘要显示，本申请提供了一种超薄光刻胶晶圆旋涂工艺，涉及半导体制造领域。本申请旨在解决现有光刻胶超薄旋涂过程中存在的均匀性差、附着力不足、缺陷密度高和用料浪费等问题。该工艺的核心是通过聚硅氧烷预润湿、溶剂预润洗与多点滴胶阶梯升速的工艺设计，从表面化学与流体力学两个角度实现了技术效果。聚硅氧烷预润湿的操作提供了化学键合锚点，确保超薄胶层与晶圆表面的附着力显著提升；溶剂预润洗降低了晶圆的表面张力，使得胶滴得以顺利铺展；多点滴胶阶梯升速使胶滴迁移路径缩短，提升了胶滴的利用率，并解决了针孔、放射状条纹与气泡等宏观缺陷；同时，胶滴有充足时间进行铺展。该工艺为超薄光刻胶旋涂提供了一种高效、稳定且经济的技术方案。
天眼查资料显示，四川阿法龙光电科技有限公司，成立于2025年，位于德阳市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本6000万人民币。通过天眼查大数据分析，四川阿法龙光电科技有限公司共对外投资了1家企业，专利信息9条，此外企业还拥有行政许可2个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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