北京
国家知识产权局信息显示，北京大恒图像视觉有限公司申请一项名为“一种基于双曝光面阵光度立体浅划痕检测装置及方法”的专利，公开号CN122754164A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本发明涉及一种基于双曝光面阵光度立体浅划痕检测装置及方法，印刷品浅划痕缺陷检测技术领域，包括彩色面阵相机、定焦镜头、照明组件、运动平台和光电传感器；彩色面阵相机具有一次触发多次曝光功能；照明组件包括光源控制器和多个光源，控制中心通过光源控制器控制各光源分区组以预定时间间隔依次启动，且每一光源分区组内所有光源同步点亮、同步熄灭；控制中心同步启动彩色面阵相机和光源控制器；彩色面阵相机在光源分区组内所有光源同步点亮的同时，曝光采集彩色图像，并通过彩色分通道方法将彩色图像按不同的光源拆分成多幅单通道灰度图。本发明有效克服了产品因高速运动带来不同照明方向图像发生位移而影响图像合成效果的问题。
天眼查资料显示，北京大恒图像视觉有限公司，成立于1991年，位于北京市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本5000万人民币。通过天眼查大数据分析，北京大恒图像视觉有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目423次，财产线索方面有商标信息5条，专利信息247条，此外企业还拥有行政许可6个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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