芯片怎么造?到今天还是得靠光刻,光刻就得用光刻机。
这几十年,芯片工艺往前走,基本是被光刻机拽着走的——DUV、浸润式DUV、EUV,一代设备对应一代工艺。
所以美国想卡住中国芯片,最直接的一招就是不卖EUV。
在不少人眼里,没有EUV,7nm以下就别想了。
这个判断也不是凭空来的。今年9月初,ASML的独家光学供应商蔡司,其半导体业务负责人罗蒙德接受彭博电视采访时说,中国要自己做出成熟的EUV,可能需要15年,这是个"合理的估计";瑞银的分析师更早也说过,至少10年。
理由很硬:EUV不是砸钱能突击出来的东西,ASML1997年立项,2016年才交付第一台能量产的机器,中间走近20年。
而且这台机器本身是全球凑出来的——ASML更像总装厂,光源、光学系统这些关键部件来自欧美几十家供应商,蔡司是它唯一的镜片来源。要绕开这一整套,等于从零搭一条链。
按这套逻辑,中国要么等,要么就在7nm上下打转。
华为选了第三条路:不比谁的晶体管更小,改看信号跑得快不快。
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今年5月25日,华为董事、半导体业务部总裁何庭波在一次研讨会上提出"韬(τ)定律"。τ是时间常数。老路子叫"几何缩微",就是把晶体管越做越小;新路子叫"时间缩微",晶体管大小先不怎么动,改从结构上把信号路径缩短。
打个比方就清楚了:过去是在一块地上把房子越盖越小、越挤越密;现在是给房子加一层改成复式,信号不用在一层里横穿大半个芯片,直接上下走。华为管这个叫"逻辑折叠"。
这不是临时冒出来的想法。何庭波说,过去六年华为已经设计并量产了381款遵循这个思路的芯片,用在通信、手机、自动驾驶、AI计算上。
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真正的检验在9月7日。华为发布三折叠手机Mate XT 2,首发麒麟9050 Pro——第一款把逻辑折叠商用落地的芯片。
何庭波9月4日发布的第三篇论文里给了几个数:晶体管密度从每平方毫米约1.55亿提升到2.38亿,涨了55%,大致相当于3nm工艺对应的密度水平;两层裸片之间约有5000万个连接,其中500万到1000万个用来传信号,而普通3D封装这个量级只有几万到几十万个。
功耗也确实降了:NPU最高降66%,GPU降58%,CPU性能核降41%。
话说回来,别急着下结论。
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何庭波自己写得很克制:"坦诚来说,我们不能声称这项技术已经达成一劳永逸的最终胜利。"论文里还提到,麒麟2026存在"整体功耗降了、但每平方毫米功耗反而上升"的问题,要在麒麟2027里解决。
中科院院士褚君浩也提醒,理论创新打开的是新思路,但还得靠时间去检验,能不能像摩尔定律那样变成一条可以定量表达的规律,现在还不好说。
华为给出的目标摆在那儿:到2031年,同样走成熟制程,晶体管密度做到400+MTr/mm²,主频5.0GHz,往等效1.4nm的方向走。
所以更准确的说法,也许不是"卡EUV没意义了",而是——原来那条路我们走不了,那就先换一条往前走。而罗蒙德自己那句话说得挺实在:出口管制不会带来积极作用,"反而会加速中国的创新"。
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