北京
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国家知识产权局信息显示，上海新毅东半导体科技有限公司取得一项名为“曝光系统及其安全自检方法以及光刻机”的专利，授权公告号CN121500695B，申请日期为2025年12月。
天眼查资料显示，上海新毅东半导体科技有限公司，成立于2022年，位于上海市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本2000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海新毅东半导体科技有限公司参与招投标项目1次，专利信息53条，此外企业还拥有行政许可4个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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