北京
国家知识产权局信息显示，北京盛新景华科技有限公司申请一项名为“一种非线性光学晶体电子材料的制备方法”的专利，公开号CN122751326A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本发明公开了一种非线性光学晶体电子材料的制备方法，本发明涉及先进无机非金属材料技术领域，采用六面顶压机作为高压合成设备，包含三项核心技术：将碱金属卤化物与硫族化合物调节剂构成的复合助熔剂封装于贵金属密封管内，在高压腔体内建立超临界流体等静压传递环境，消除固体传压介质引入的剪切应力，在成核阶段施加振荡幅值为正负零点一至正负零点三吉帕、频率为零点零零五至零点零五赫兹的低频正弦动态交变压场，利用各相摩尔体积差异实现相选择性定向结晶，将高压多面体极化畸变态冻结至常压，所制备晶体位错密度低于每平方厘米一万个位错，相纯度达百分之百，同时实现宽带隙与大倍频系数的双重性能指标。
天眼查资料显示，北京盛新景华科技有限公司，成立于2023年，位于北京市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，北京盛新景华科技有限公司拥有行政许可1个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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