北京
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摩根大通分析师与阿斯麦管理层会面后表示，公司正研究在2028年生产逾110部极紫外光(EUV)光刻机，以应付AI带动的需求。阿斯麦早前已表示，2027年的EUV光刻机产能几近售罄，当年可生产至少80部，并计划在2028年把产量提高约30%。小摩引述管理层指，目前需求仍然“非常非常强劲”，大部分新订单已是2028年交付。小摩指出，阿斯麦目前扩大EUV产量的主要限制并非供应链，而是EUV光刻机的组装速度。 该行预计，英特尔在2027年将再次成为阿斯麦的重要客户；至于马斯克正在筹建的Terafab，则被列为正在发展中的新客户。至于新一代High NA EUV光刻机，该行预计客户将于2028年开始采用，但较大规模的使用料会在未来10年逐步增加。中国市场方面，该行预计阿斯麦于2027年向中国记忆体芯片制造商的销售将较强。
本文源自：金融界AI电报
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