北京
国家知识产权局信息显示，天津华大九天科技有限公司申请一项名为“一种FPD版图布线中规避上层金属关键尺寸偏差的方法”的专利，公开号CN122735613A，申请日期为2026年6月。
专利摘要显示，本发明提供一种FPD版图布线中规避上层金属关键尺寸偏差的方法，包括：设计梯度测试图形版图：固定上层金属的设计关键尺寸并设置梯度变化的节距，将测试图形阵列布设于面板版图非功能闲置区域；收集实测数据：将搭载所述梯度测试图形版图的面板版图投入制程，流片并测量上下层金属显影后的关键尺寸；分析所述实测数据：识别上层关键尺寸随节距变化出现的异常变化区间，所述区间对应于上层金属单边交叠于下层金属锥角范围内；确定上下层金属间相对位置范围：根据所述异常变化区间的实测数据，计算上下层金属间应规避的相对位置范围。本发明实现了从设计源头规避锥角带来的上层金属关键尺寸偏差问题。
天眼查资料显示，天津华大九天科技有限公司，成立于2024年，位于天津市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本20000万人民币。通过天眼查大数据分析，天津华大九天科技有限公司参与招投标项目12次，专利信息8条，此外企业还拥有行政许可2个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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