北京
国家知识产权局信息显示，武汉中观自动化科技有限公司申请一项名为“面阵结构光扫描的多曝光参数自适应确定方法及设备”的专利，公开号CN122741796A，申请日期为2026年6月。
专利摘要显示，本发明提供了一种面阵结构光扫描的多曝光参数自适应确定方法及设备，属于光学三维测量技术领域。该方法包括：采集待扫描物体在不同曝光时间下的图像，获取每个像素的灰度值并拟合其与曝光时间的线性响应关系；根据每个像素的线性响应关系及预设的目标灰度值，确定每个像素的理想曝光时间，并基于所有像素的理想曝光时间构建目标曝光直方图；基于所述目标曝光直方图构建用于评估候选曝光值序列的总收益函数；采用动态规划算法求解使所述总收益函数最大化的目标多曝光参数序列，所述序列包括曝光次数和每次曝光的曝光值。采用本发明能够自动计算兼顾信噪比、覆盖率和曝光次数的多曝光参数，提高三维重建的完整度、精度及扫描效率。
天眼查资料显示，武汉中观自动化科技有限公司，成立于2014年，位于武汉市，是一家以从事专业技术服务业为主的企业。企业注册资本1250万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉中观自动化科技有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目116次，财产线索方面有商标信息43条，专利信息258条，此外企业还拥有行政许可5个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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