北京
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国家知识产权局信息显示，上海是芯半导体有限公司申请一项名为“6μm红外增透膜及其制备方法”的专利，公开号CN122687118A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本发明公开一种用于金刚石CO2激光器窗口的6μm红外增透膜及其制备方法，该增透膜包括交替沉积在金刚石基底上的低折射率材料层和高折射率材料层，低折射率材料为氟化钇，高折射率材料为硫化锌。本发明通过优化膜层材料和结构，在6μm波长处实现高透射率，从而提高金刚石CO2激光器的输出功率和效率。
天眼查资料显示，上海是芯半导体有限公司，成立于2024年，位于上海市，是一家以从事批发业为主的企业。企业注册资本300万人民币。通过天眼查大数据分析，上海是芯半导体有限公司专利信息1条。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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