北京
国家知识产权局信息显示，硕方科技（北京）有限公司申请一项名为“一种耐液氮环境标签及其制备方法”的专利，公开号CN122668639A，申请日期为2026年6月。
专利摘要显示，本申请涉及一种耐液氮环境标签及其制备方法，标签的制备原料包括耐低温基材层和耐低温胶层；以耐低温基材层的总质量计，所述耐低温基材层包括以下质量百分比的原料：65‑75wt%的改性PET树脂、3‑7wt%的尼龙、15‑25wt%的聚乙二醇、1‑3wt%的POE‑g‑MAH、1‑3wt%的抗氧剂和0.5‑1.5wt%的润滑剂；以耐低温胶层的总质量计，所述耐低温胶层包括以下质量百分比的原料：80‑85wt%的溶剂型丙烯酸酯压敏胶、10‑15wt%改性纳米二氧化硅、3‑5wt%的乙烯基三甲氧基硅烷和0.3‑0.7wt%的热引发剂。该标签在液氮环境下具有良好的拉伸强度、断裂伸长率和粘附强度。
天眼查资料显示，硕方科技（北京）有限公司，成立于2005年，位于北京市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，硕方科技（北京）有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目60次，财产线索方面有商标信息55条，专利信息39条，此外企业还拥有行政许可4个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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