北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“控制液滴生成器性能的设备和方法”的专利，公开号CN122665658A，申请日期为2020年2月。
专利摘要显示，一种控制用于生成EUV辐射的液滴的形成的设备和方法。液滴源包括离开喷嘴的流体和具有在流体中产生扰动的可电致动元件的子系统。液滴源产生流，该流分裂成液滴，当液滴朝向辐照区域前进时，液滴转而聚结成更大的液滴。可电致动元件由具有正弦波分量和方波分量的控制信号驱动。测量和控制各种参数，诸如正弦波分量与方波分量之间的相位差，以使流中未聚结的卫星液滴的形成最小化。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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