北京
分享至
国家知识产权局信息显示，朗姆研究公司申请一项名为“用于修正套刻误差的背侧膜沉积”的专利，公开号CN122664084A，申请日期为2025年1月。
专利摘要显示，一公开示例提供了一种减轻衬底翘曲的方法。该方法包含在翘曲衬底上沉积具有受控的可变厚度轮廓的背侧膜。该方法进一步包含将该翘曲衬底夹在卡盘上。夹持该翘曲衬底是使背侧膜平整地抵靠卡盘，从而使该翘曲衬底弯曲以减轻衬底翘曲。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
