北京
国家知识产权局信息显示，拓荆键科（海宁）半导体设备有限公司申请一项名为“真空吸附盘和晶圆键合设备”的专利，公开号CN122641308A，申请日期为2026年6月。
专利摘要显示，本发明公开了一种真空吸附盘和晶圆键合设备。该真空吸附盘包括：吸附盘本体，其第一表面设有第一吸附区，以吸附晶圆的第一区域；窗口，设于所述吸附盘本体中，用于观察所述晶圆中的标识；以及薄片，设于所述窗口内，所述薄片中设有辅助气道，形成第二吸附区，以吸附所述晶圆的标识区。本发明能够改善被吸附晶圆在卡盘窗口开口处的局部形变，从源头修正晶圆标记的坐标误差，从而提高上下晶圆的对位精度，提升后续键合的整体工艺良率。
天眼查资料显示，拓荆键科（海宁）半导体设备有限公司，成立于2020年，位于嘉兴市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本1511.4245万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆键科（海宁）半导体设备有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目12次，财产线索方面有商标信息7条，专利信息121条，此外企业还拥有行政许可10个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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