国家知识产权局信息显示,中芯集成电路(宁波)有限公司申请一项名为“一种MEMS器件的制作方法和MEMS器件”的专利,公开号CN122607968A,申请日期为2026年4月。
专利摘要显示,本发明提供了一种MEMS器件的制作方法和MEMS器件,其中,制作方法包括:提供第一晶圆和第二晶圆,第二晶圆键合在第一晶圆的一侧,且与第一晶圆围设形成第一空腔;在第二晶圆远离第一晶圆的一侧依次设置第一掩膜层和第二掩膜层,第二掩膜层的材料与第一掩膜层的材料不同;根据第二掩膜层刻蚀第二晶圆以在与第一空腔所对应的位置形成多个间隔设置的梳齿结构,并去除第二掩膜层;根据第一掩膜层刻蚀第二晶圆以形成凸台,凸台的正投影位于第一空腔外,并去除第一掩膜层。本申请通过先刻蚀第二晶圆形成梳齿结构,再刻蚀第二晶圆形成凸台,且在刻蚀梳齿结构之前先设置第一掩膜层,解决了垂直支撑锚点上的光刻胶厚度不足导致垂直支撑锚点出现凹槽的问题。
天眼查资料显示,中芯集成电路(宁波)有限公司,成立于2016年,位于宁波市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本473304.347718万人民币。通过天眼查大数据分析,中芯集成电路(宁波)有限公司参与招投标项目39次,财产线索方面有商标信息71条,专利信息555条,此外企业还拥有行政许可22个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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