北京
国家知识产权局信息显示，西安奕斯伟材料科技股份有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司申请一项名为“抛光垫清洁装置及方法、抛光设备”的专利，公开号CN122559886A，申请日期为2026年6月。
专利摘要显示，本公开提供一种抛光垫清洁装置及方法、抛光设备。该抛光垫清洁装置包括：毛刷组件，包括固定底板、及安装至固定底板上的刷毛，固定底板上设有压力检测部件，压力检测部件用于实时检测刷毛与抛光垫之间的接触压力数据；升降机构，与固定底板连接，用于驱动毛刷组件相对抛光垫进行升降运动；及控制单元，与压力检测部件及升降机构分别通信连接，控制单元用于：获取压力检测部件所检测到的接触压力数据；将接触压力数据与预设的标准压力阈值进行比对，并根据比对结果确定升降机构的行程补偿量，基于所述行程补偿量，通过所述升降机构调整所述毛刷组件的下降高度。本公开抛光垫清洁装置及方法、抛光设备毛刷可提升抛光垫清洗效果，提升硅片加工品质。
天眼查资料显示，西安奕斯伟材料科技股份有限公司，成立于2016年，位于西安市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本403780万人民币。通过天眼查大数据分析，西安奕斯伟材料科技股份有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目13次，专利信息1635条，此外企业还拥有行政许可24个。
西安奕斯伟硅片技术有限公司，成立于2018年，位于西安市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本660000万人民币。通过天眼查大数据分析，西安奕斯伟硅片技术有限公司参与招投标项目380次，专利信息1087条，此外企业还拥有行政许可54个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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