北京
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国家知识产权局信息显示，南京南智先进光电集成技术研究院有限公司申请一项名为“一种薄膜铌酸锂晶圆的高一致性微纳加工工艺及其基本光子器件”的专利，公开号CN122482395A，申请日期为2026年5月。
专利摘要显示，本发明涉及一种薄膜铌酸锂晶圆的高一致性微纳加工工艺，通过构建具有刻蚀选择性差异的双层硬掩膜结构，结合分步图形转移、干法刻蚀及侧壁修复处理，实现对刻蚀过程的精确调控与侧壁形貌优化。该工艺可有效提高微纳结构的一致性与加工精度，适用于光波导、微环谐振器及电光调制器等集成光子器件的制备量。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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