国家知识产权局信息显示,杭州深度原理科技有限责任公司申请一项名为“适用于密度泛函推荐模型的训练方法和电子设备”的专利,公开号CN122494050A,申请日期为2026年6月。
专利摘要显示,本发明的目的是提供一种适用于密度泛函推荐模型的训练方法和电子设备,通过主动学习机制,系统仅需对全部分子中的一小部分进行昂贵的金标准与多DFA计算,即可高效训练出性能相当的模型。这能够将模型训练阶段的总计算成本降低,使得高性能DFA推荐系统的开发突破经济性瓶颈。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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