北京
国家知识产权局信息显示，嘉际环控（西安）科技有限公司申请一项名为“一种用于薄膜沉积设备的气柜”的专利，公开号CN122466437A，申请日期为2026年6月。
专利摘要显示，本申请公开了一种用于薄膜沉积设备的气柜，属于半导体薄膜沉积技术领域。其包括：柜体；进气风门，设置于柜体的前门板上，可调节进气风门的大小；出气孔；扰风板组件，其设置于柜体的内部且与出气孔同轴，其包括主扰风板及多个次扰风板，用于对气流进行导向分流以规避气流死区；出气调节组件，其包括缓冲壳体及直角弯管，缓冲壳体密封焊接于柜体的后门板上并且完全覆盖出气孔，以在缓冲壳体与后门板之间形成一个与出气孔连通的密闭空间，直角弯管的两侧分别与缓冲壳体以及薄膜沉积设备的负压排气管路连接。本申请通过可调节进气风门、扰风板组件以及缓冲式出气调节组件，实现了有效的流场调控，规避气流死区。
天眼查资料显示，嘉际环控（西安）科技有限公司，成立于2021年，位于西安市，是一家以从事零售业为主的企业。企业注册资本1098.222061万人民币。通过天眼查大数据分析，嘉际环控（西安）科技有限公司共对外投资了4家企业，财产线索方面有商标信息4条，专利信息53条，此外企业还拥有行政许可6个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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