北京
国家知识产权局信息显示，苏州世华新材料科技股份有限公司申请一项名为“一种高折射率表面改性剂及其合成方法”的专利，公开号CN122465137A，申请日期为2026年4月。
专利摘要显示，本发明涉及光学材料技术领域，具体为一种高折射率表面改性剂及其合成方法。该表面改性剂具有A‑B‑C通式结构，其中A为含可反应双键的羧基，B为分子量不大于300的聚乙二醇或聚丙二醇链段，C为含苯基、联苯、芴或含硫杂环的高折射率可聚合链段。本发明表面改性剂折射率高（1.57‑1.63），能有效改善纳米粒子在有机树脂中的分散性，所得薄膜雾度低（≤0.4%）、透过率高（≥93%），且含有可聚合双键，可参与UV固化形成交联网络，显著降低迁移风险，老化后雾度几乎不变，适用于AR眼镜衍射光波导等高折射率光学材料领域。
天眼查资料显示，苏州世华新材料科技股份有限公司，成立于2010年，位于苏州市，是一家以从事橡胶和塑料制品业为主的企业。企业注册资本28038.2791万人民币。通过天眼查大数据分析，苏州世华新材料科技股份有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目22次，财产线索方面有商标信息73条，专利信息244条，此外企业还拥有行政许可43个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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