北京
昨天深夜，一条关于中国浸没式DUV光刻机已经开始小批量试产的消息，导致美股半导体闪崩。
英伟达跌4%，ASML跌7%，美光跌8%，闪迪跌11%，华尔街称之为DeepSeek时刻2.0。
发消息的是《The Information》，一家美国科技新闻网站，由前《华尔街日报》记者杰西卡创立。
特点是专注科技行业深度报道，不追求流量，只追求独家新闻。
订阅费一年要几百美元，可不便宜，读者基本都是科技圈和投资圈的高层人士。
它的可靠度在科技媒体圈属于中上，不像《华尔街日报》或《纽约时报》那么稳，但也不会为了流量夸大事实，独家报道经常被其他主流媒体引用。
曾经率先报道过苹果、谷歌、特斯拉等公司的内部消息，事后证明大部分是准的。
但也有翻车的时候，比如它曾报道过苹果要收购某家公司，结果没成。
所以，对于它的消息，我们应该半信半疑，大体方向可信，但细节就比较可疑。
它在美国公司的线人很多，而且大多是VP以上高管，所以准确率高一些，但在中国就没那么吃得开了。
不过，这次消息大概率是真的。
除了资本市场真金白银的投票之外，中国在光刻机领域的突破，确实也不是什么秘密。
2024年，工信部发布的《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录》中，已经明确列出了“氟化氪光刻机”和“氟化氩光刻机”两项。
前者采用氟化氪（KrF）激光光源，波长248纳米，分辨率小于等于110纳米，可以生产90纳米及以上制程的芯片。
根据目录，这种光刻机已经进入“推广应用”阶段，也就是说它至少已经通过了实验室验证，可以小批量生产，并开始向客户供货了。
更有消息称，这种光刻机已经开始对外销售，价格只有ASML同类产品的三分之一。
后者采用氟化氩（ArF）激光光源，波长193纳米，又分为干式和浸没式两种。
ArF干式分辨率65纳米，理论上可用于28纳米以上制程。
ArF浸没式单次曝光分辨率40纳米左右，多重曝光可生产等效5纳米芯片。
其中ArF干式早就进目录了，现在有没有量产不知道，但小批量试产肯定早就在做，不算什么新闻。
这次说的是ArF浸没式，还没有上目录，所以被曝出来才会这么轰动。
至于为什么中国不公开光刻机进展，总是神神秘秘的？
主要就是因为美国对中国芯片产业的打压，已经到了丧心病狂的地步。
一旦我们高调宣布光刻机突破，美国就会加大制裁力度，甚至可能联合盟友进行更严厉的封锁。
光刻机的制造，涉及上千家供应商，如果中国高调宣布突破，美国可能会对这些供应商进行制裁，掐断供应链。
为了嘴上痛快而承担实质风险，完全没必要，还得低调行事，先慢慢成长，等足够强了再公开也不迟。
有些话说了几年，但今天还要再强调。
中国有人类有史以来最完善的工业体系，有14亿人统一大市场，又是全世界智商最高的民族，突破封锁是板上钉钉的事。
而一旦突破封锁，很快就能把整个行业卷成白菜价，这就是美股被吓闪崩的原因。
关于中美AI未来走势的详细分析可以读。
但是请注意，我可不是让你去投资中国科技股。
科技就是用来突破的，今天领先的公司明天可能就落后，以你对行业的理解，根本不可能追得上前沿，那就只有被收割的命。
如果非要投资，我也只建议投资中国核心资产，那才是护城河，再过10年也不会变，关于什么是核心资产，可以读。
至于如何投资核心资产，请详细阅读，并严格执行，否则就算你买了也拿不住，中途被波动颠下车，那依然还是韭菜。
我的新书《善战》，以兵法突破认知，读了就停不下来……
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