北京
国家知识产权局信息显示，长鑫科技集团股份有限公司申请一项名为“形成图案的方法”的专利，公开号CN122476888A，申请日期为2025年1月。
专利摘要显示，本公开实施例涉及半导体领域，提供一种形成图案的方法，通过在衬底上依次形成掩膜层和图案转移层，图案转移层包括依次堆叠的第一抗反射层、中间层和第二抗反射层；依次图案化刻蚀第二抗反射层、中间层和第一抗反射层，以形成第一沟槽，第一沟槽暴露部分掩膜层；通过形成依次堆叠的第一抗反射层、中间层和第二抗反射层，能够精确控制刻蚀后的第二抗反射层的形状，保证图案形成质量和图案尺寸的精确度。
天眼查资料显示，长鑫科技集团股份有限公司，成立于2016年，位于合肥市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本6019279.7469万人民币。通过天眼查大数据分析，长鑫科技集团股份有限公司共对外投资了16家企业，参与招投标项目1082次，财产线索方面有商标信息301条，专利信息706条，此外企业还拥有行政许可39个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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