北京
国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为“Al衬垫的制造方法”的专利，公开号CN122476939A，申请日期为2026年4月。
专利摘要显示，本发明公开了一种Al衬垫的制造方法，包括：采用含有Cu的合金铝靶材进行PVD生长在晶圆表面形成Al层。对Al层进行扫描确定是否存在小丘缺陷。如果Al层存在小丘缺陷，判定小丘缺陷由析出的CuAl2形成；根据AlCu相图进行设置退火的温度并进行退火以消除小丘缺陷，退火的温度大于等于Al层中的铜含量对应α‑Al固溶体单相区和CuAl2相区转变温度，退火的时间保证Al层中小丘缺陷消失。如果Al层中不存在小丘缺陷，则对Al层进行图形化以形成Al衬垫。本发明能消除小丘缺陷。
天眼查资料显示，上海华力集成电路制造有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2960000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华力集成电路制造有限公司参与招投标项目2091次，专利信息2867条，此外企业还拥有行政许可550个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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