北京
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国家知识产权局信息显示，ASM IP私人控股有限公司申请一项名为“用于形成含硅膜的组合物、方法和系统”的专利，公开号CN122459315A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本公开涉及特别适合于使用气相沉积方法形成含硅膜的硅前体组合物。所述硅前体包含至少一个硅基磷烷基。在某些实施例中，所述硅前体包含两个或更多个围绕中心连接单元(例如原子或原子团)而定位的硅基磷烷基。本文还公开用于形成所述硅前体组合物的方法以及使用所述组合物来形成含硅膜的气相沉积方法和系统。特别地，所公开的硅前体组合物可用于形成硅氮化物膜。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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