北京
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今年6月，俄罗斯泽列诺格勒纳米技术中心的实验室里，一台新设备成功跑通了电子束直写工艺。这台命名为“Progress ELL 150”的原型系统，目标很明确——在150纳米节点上，不用掩模版直接把电路图案“画”在晶圆上。
电子束光刻的核心优势，就是不依赖昂贵的光掩模版。对于大批量生产来说，它的吞吐量是个硬伤，但在小规模、多品种的制造场景里，灵活切换设计的本事就很吃香了。传统上，电子束光刻大多用来制作掩模版，现在俄罗斯工程师直接把它推向了芯片制造的前段。
泽列诺格勒纳米技术中心负责人透露，目前有两套原型机正在进行为期4个月的初步测试，完成之后还要进一步验证图案化精度等关键参数。能不能稳定达到150纳米分辨率，是眼下最要紧的指标。
这种路子可能特别对俄罗斯的胃口。航天和国防工业对芯片的需求量本来就不大，但对供应链自主可控的要求极高。直接用电子束光刻造芯片，虽然慢，但绕过了最卡脖子的掩模环节，商业化也不是完全没可能。至少，那帮搞卫星和导弹的家伙，或许能先拿到一批“非主流”工艺流片的货。
不管怎样，这步棋至少表明：全球半导体设备的竞赛里，俄罗斯也在试着走一条自己的小路。
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