北京
分享至
国家知识产权局信息显示，中国计量大学;杭州欧策科技有限公司申请一项名为“一种高耐蚀Ni-Sn-P三层膜合金镀层及其电化学沉积制备方法”的专利，公开号CN122428352A，申请日期为2026年6月。
专利摘要显示，本发明公开了一种高耐蚀Ni‑Sn‑P三层膜合金镀层及其电化学沉积制备方法，涉及金属材料表面处理技术领域。本发明在基底材料表面依次制备Ni‑P底层、两种不同锡含量的Ni‑Sn‑P功能层，构筑复合三层膜结构，利用各镀层组分差异形成层间电位差，优化界面结构，协同提升镀层耐腐蚀能力。本发明镀层耐蚀性优异，制备工艺简便稳定、绿色环保，易于规模化生产，可满足电子精密设备严苛腐蚀环境的使用需求。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
