北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“带电粒子系统中的高压放电检测”的专利，公开号CN122439229A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，公开了一种用于检测带电粒子系统中的放电事件的改进技术。一种用于朝向样品投射带电粒子束的电子光学装置，该电子光学装置包括：工作台，被配置为支撑样品；真空腔室，被配置为维持真空；电子光学设备，被配置为生成带电粒子束并朝向样品引导该带电粒子束；以及光学检测系统，被配置为检测该装置内的电磁辐射，该光学检测系统包括传感器和光波导，该光波导具有被定位以便检测该装置内的电磁辐射的第一端部。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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