北京
国家知识产权局信息显示，武汉光迅科技股份有限公司申请一项名为“一种双向泵浦的EDFA光路设计方法与光路结构”的专利，公开号CN122436778A，申请日期为2026年3月。
专利摘要显示，本发明提供一种双向泵浦的EDFA光路设计方法与光路结构，分别获取双向泵浦结构中本端泵浦激光器的输出功率和最小回损值，根据所述本端泵浦激光器的输出功率和最小回损值得到本端泵浦激光器的最大可承受反向光，根据最大可承受反向光调节相应的铒纤长度，使得双向泵浦结构中的泄露光功率小于最大可承受反向光，避免泄露光影响到泵浦激光器的正常使用，通过上述调节使得对于泄露光较为敏感的泵浦激光器也能应用于双向泵浦结构中，在性能保证的同时，将掺铒光纤放大器结构性价比提高。
天眼查资料显示，武汉光迅科技股份有限公司，成立于2001年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本80667.5752万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉光迅科技股份有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目2501次，财产线索方面有商标信息7条，专利信息1935条，此外企业还拥有行政许可107个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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