北京
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来源：问董秘
投资者提问：
韬定律工艺下通过多重曝光和封测技术来实现先进工艺的突破，光刻胶等相关半导体材料会呈现翻倍的需求，目前公司在14纳米和7纳米光刻胶先进工艺大厂认证和量产的进展如何？
董秘回答(南大光电SZ300346)：
感谢您的关注！ArF光刻胶项目的具体进展情况请关注相关信息披露。
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