上海新阳申请锗硅刻蚀液相关专利，该刻蚀液可选择性刻蚀硅锗并护硅与氧化硅

来源：新浪证券-红岸工作室

7月18日消息，国家知识产权局信息显示，上海新阳半导体材料股份有限公司申请一项名为“一种锗硅刻蚀液的制备方法”的专利。申请公布号为CN122405275A，申请号为CN202610511622.3，申请公布日期为2026年7月17日，申请日期为2026年4月17日，发明人王溯、蒋闯、田亚辉、冯强强，专利代理机构上海弼兴律师事务所，专利代理师陈卓，分类号C09K13/08、C23F1/24。

专利摘要显示，本发明提供了一种锗硅刻蚀液的制备方法。具体地，本发明公开了一种锗硅刻蚀液的制备方法，其包括如下步骤：将0.1%‑5%的氟化物、5%‑70%的氧化剂、0.1%‑2%的抑制剂、0.5%‑5%的缓冲组分和余量的溶剂混合，得到所述的锗硅刻蚀液。所述的锗硅刻蚀液能够选择性减慢对GAA MOSFET结构中硅和氧化硅的刻蚀速率，选择性对硅‑锗合金进行刻蚀。

作为国内领先的半导体材料核心供应商，上海新阳主营电子化学品相关产品，在晶圆制造关键材料领域具备突出技术壁垒。公司成立于2004年5月12日，2011年6月29日于深圳证券交易所挂牌上市，注册与办公所在地均为上海市。

上海新阳主营业务分为两大板块，一类为集成电路制造及先进封装用关键工艺材料及配套设备的研发、生产、销售和服务，为客户提供整体化解决方案；另一类为环保型、功能性涂料的研发、生产及相关服务，提供专业的整体涂装业务解决方案。公司所属申万行业为电子-电子化学品Ⅱ-电子化学品Ⅲ，同时覆盖半导体设备、中芯国际概念、大基金二期等热门概念板块。

2025年上海新阳实现营业收入19.37亿元，在36家同行业企业中排名第14位，略高于19.33亿元的行业平均水平，超出15.26亿元的行业中位数，同期行业内营收排名前两位的企业分别为西陇科学（73.31亿元）、国瓷材料（45.83亿元）。营收结构中，集成电路材料贡献14.79亿元，占比76.35%；涂料品业务实现4.2亿元营收，占比21.68%；集成电路材料配套设备及配件营收3424.54万元，占比1.77%；其余业务营收400.22万元，占比0.21%。盈利端，公司2025年归母净利润达3.01亿元，位列行业第9位，大幅高于1.8亿元的行业平均水平与1.25亿元的行业中位数，同期行业净利润前两位企业分别为鼎龙股份（7.96亿元）、安集科技（7.84亿元）。

指标类型 当期数值 行业排名/总家数 行业头部企业表现 行业平均水平 行业中位数 营业收入 19.37亿元 14/36 西陇科学73.31亿元、国瓷材料45.83亿元 19.33亿元 15.26亿元 净利润 3.01亿元 9/36 鼎龙股份7.96亿元、安集科技7.84亿元 1.8亿元 1.25亿元

上海新阳半导体材料股份有限公司近期专利情况如下：

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人1一种锗硅刻蚀液的制备方法发明专利公布CN202610511622.32026-04-17CN122405275A2026-07-17王溯、蒋闯、田亚辉、冯强强2抗蚀剂下层膜、原料组合物、制备方法和图案形成方法发明专利公布CN202610464093.62026-04-09CN122362741A2026-07-10王溯、徐森、孙友松、赵启新3一种锗硅刻蚀液发明专利公布CN202512015631.12025-12-30CN121759220A2026-03-31王溯、马丽、邢诗惠、翟俊杰4一种高选择比锗硅刻蚀液发明专利公布CN202512015622.22025-12-30CN121759218A2026-03-31王溯、邢诗惠、叶似剑、王婷婷5一种高选择比锗硅刻蚀液的制备发明专利公布CN202512015624.12025-12-30CN121759219A2026-03-31王溯、演嘉辉、田亚辉、李慧6一种锗硅刻蚀液的制备发明专利公布CN202512015627.52025-12-30CN121825552A2026-04-10王溯、邢诗惠、马伟、代旭7一种锗硅刻蚀液的应用发明专利公布CN202512015626.02025-12-30CN121825551A2026-04-10王溯、演嘉辉、和晓敏、张怡8一种高选择比锗硅刻蚀液的应用发明专利公布CN202512015620.32025-12-30CN121825550A2026-04-10王溯、邢诗惠、李志强、肖富蓉9一种硫代二乙酸的提纯方法发明专利公布CN202511026178.82025-07-24CN120887820A2025-11-04王溯、李志强、孙红旗、张怡10一种引线框架磁性吸盘实用新型授权CN202422539208.22024-10-21CN223339461U2025-09-16韩烨、朱登峰、李蒙、李祝青11盖板机构、晶圆清洗装置及晶圆封装设备发明专利公布CN202411138781.02024-08-19CN118768290A2024-10-15王振荣、刘红兵12晶圆清洗媒介的循环装置、循环方法及晶圆封装设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411138823.02024-08-19CN118800693A2024-10-18王振荣、刘红兵13晶圆清洗装置及晶圆封装设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411138804.82024-08-19CN118800692A2024-10-18王振荣、刘红兵14行车搬运装置及晶圆封装设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411138851.22024-08-19CN118824920A2024-10-22王振荣、刘红兵15温度控制装置及晶圆清洗设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411138758.12024-08-19CN118824903A2024-10-22王振荣、刘红兵16晶圆提篮及晶圆封装设备发明专利公布CN202411138723.82024-08-19CN118841352A2024-10-25王振荣、刘红兵17提篮分拣装置及晶圆封装设备发明专利公布CN202411138743.52024-08-19CN118841355A2024-10-25王振荣、刘红兵、张红林18晶圆清洗装置及晶圆封装设备发明专利公布CN202411138834.92024-08-19CN118919452A2024-11-08王振荣、孙红旗、张红林19晶圆清洗装置及晶圆封装设备实用新型授权CN202422009501.82024-08-19CN223193764U2025-08-05王振荣、刘红兵20温度控制装置及晶圆清洗设备实用新型授权CN202422009428.42024-08-19CN223193763U2025-08-05王振荣、刘红兵21晶圆清洗装置及晶圆封装设备实用新型授权CN202422009578.52024-08-19CN223193765U2025-08-05王振荣、孙红旗、张红林22盖板机构、晶圆清洗装置及晶圆封装设备实用新型授权CN202422009477.82024-08-19CN223185076U2025-08-05王振荣、刘红兵23行车搬运装置及晶圆封装设备实用新型授权CN202422009590.62024-08-19CN223347754U2025-09-16王振荣、刘红兵24晶圆清洗媒介的循环装置及晶圆封装设备实用新型授权CN202422009553.52024-08-19CN223347737U2025-09-16王振荣、刘红兵25提篮分拣装置及晶圆封装设备实用新型授权CN202422016675.72024-08-19CN223347755U2025-09-16王振荣、刘红兵、张红林26晶圆提篮及晶圆封装设备实用新型授权CN202422016648.X2024-08-19CN223612386U2025-11-28王振荣、刘红兵27一种ArF光刻用底部抗反射涂层及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410557299.42024-05-07CN120909068A2025-11-07王溯、徐森、耿志月、薛新斌28一种形成光致抗蚀剂图案的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410557297.52024-05-07CN120909073A2025-11-07王溯、徐森、耿志月、薛新斌29一种193nm光刻用底部抗反射涂层及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202410557308.X2024-05-07CN120909071A2025-11-07王溯、徐森、耿志月、吕亚娟30一种193nm光刻用底部抗反射涂层的组合物及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202410557307.52024-05-07CN120909070A2025-11-07王溯、徐森、耿志月、吕亚娟31一种ArF光刻用三元聚物及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202410557306.02024-05-07CN120904387A2025-11-07王溯、徐森、耿志月、吕亚娟32一种ArF浸没式光刻胶用聚丙烯酸酯聚合物、其制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202410557304.12024-05-07CN120904385A2025-11-07王溯、徐森、耿志月、毛金丽33一种193nm光刻用顶层涂层膜、其制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202410557302.22024-05-07CN120909072A2025-11-07王溯、徐森、耿志月、毛金丽34一种193nm光刻用底部抗反射组合物发明专利实质审查的生效、公布CN202410557300.32024-05-07CN120909069A2025-11-07王溯、徐森、耿志月、薛新斌35一种ArF光刻用双层树脂膜、其制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202410557303.72024-05-07CN120928651A2025-11-11王溯、徐森、耿志月、毛金丽36一种锗硅刻蚀液的应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311854475.22023-12-29CN120237002A2025-07-01王溯、马丽、邢诗惠、梁业成37一种锗硅刻蚀液的制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311854466.32023-12-29CN120230557A2025-07-01王溯、马丽、邢诗惠、张磊磊、马伟38一种锗硅刻蚀液发明专利实质审查的生效、公布CN202311854481.82023-12-29CN120230558A2025-07-01王溯、马丽、邢诗惠、肖富蓉39锗硅刻蚀液的制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311847688.22023-12-29CN120230555A2025-07-01王溯、孙红旗、马丽、翟俊杰40锗硅刻蚀液发明专利实质审查的生效、公布CN202311847687.82023-12-29CN120230554A2025-07-01王溯、孙红旗、马丽、刘金霞、张怡41锗硅刻蚀液的应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311847692.92023-12-29CN120282467A2025-07-08王溯、孙红旗、马丽、于仙仙、王玮42一种氧化铈抛光液的应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311831837.62023-12-28CN120230483A2025-07-01王溯、蒋闯、杨杰、沈学敏43一种氧化铈抛光液的制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311831836.12023-12-28CN120230482A2025-07-01王溯、蒋闯、李泽宇44一种氧化铈抛光液发明专利实质审查的生效、公布CN202311831834.22023-12-28CN120230481A2025-07-01王溯、蒋闯、史筱超、秦长春45一种抛光液及其制备和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311831832.32023-12-28CN120230480A2025-07-01王溯、马丽、杨杰、沈学敏46一种改性的氧化铈的应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311831831.92023-12-28CN120230513A2025-07-01王溯、马丽、史筱超、李泽宇47一种改性的氧化铈及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311831826.82023-12-28CN120229751A2025-07-01王溯、马丽、史筱超、秦长春48一种光刻胶顶涂层膜、其制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311839232.12023-12-28CN120230448A2025-07-01王溯、徐森、吕亚娟、邹琴峰49一种双层树脂膜、其制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311839231.72023-12-28CN120230447A2025-07-01王溯、徐森、吕亚娟、邹琴峰50一种羟胺类化合物清洗液的制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311839236.X2023-12-28CN120230609A2025-07-01王溯、蒋闯、冯强强、刘金霞、翟俊杰