北京
国家知识产权局信息显示，中材人工晶体研究院（山东）有限公司申请一项名为“多温区精准控温的CVD沉积室及气体均匀分布系统”的专利，公开号CN122358154A，申请日期为2026年5月。
专利摘要显示，本发明公开了一种多温区精准控温的CVD沉积室及气体均匀分布系统，属于化学气相沉积设备技术领域；该系统包括沉积室腔体、多温区加热模块、气体分布模块、基板承载旋转模块及控温控气集成终端；多温区加热模块采用中心感应加热与边缘电阻补偿的分区独立控温结构，消除腔体温差；气体分布模块采用带导流隔板的气体缓冲腔及从中心到边缘孔径/孔间距渐变的梯度孔径多孔喷淋头，实现反应气体均匀扩散；基板承载旋转模块通过磁悬浮底座实现旋转托盘的无接触悬浮支撑，并采用磁耦合驱动方式旋转。控温控气集成终端对各模块进行集中监测与闭环调控。本发明实现了温度、气体流量及旋转转速的精准协同控制，显著提升了薄膜厚度均匀性与表面质量。
天眼查资料显示，中材人工晶体研究院（山东）有限公司，成立于2020年，位于济南市，是一家以从事非金属矿物制品业为主的企业。企业注册资本11133.4655万人民币。通过天眼查大数据分析，中材人工晶体研究院（山东）有限公司参与招投标项目78次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息98条，此外企业还拥有行政许可16个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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