北京
国家知识产权局信息显示，浙江蓝创光电科技有限公司申请一项名为“基于抛光盘面凹凸形态的双面抛光控制方法及系统”的专利，公开号CN122323055A，申请日期为2026年5月。
专利摘要显示，本发明公开了基于抛光盘面凹凸形态的双面抛光控制方法及系统，涉及智能控制技术领域。方法包括：设置游星轮的初始基准转速，生成第一初始抛光路径和第二初始抛光路径；获取第一切向阻力矢量和第二切向阻力矢量，计算双面切向力差值，当双面切向力差值大于等于预设阈值时触发路径规划器；获取第一补偿速度增量和第二补偿速度增量；对游星轮的初始外齿圈转速进行调制，获取调制转速信号；将调制转速信号、第一补偿速度增量和第二补偿速度增量发送至游星轮的上下盘驱动电机，获取第一重构抛光路径和第二重构抛光路径。解决了现有技术中双面抛光过程中上下表面受力不均，导致抛光均匀性较差的技术问题，达到了提高工件双面抛光均匀性的技术效果。
天眼查资料显示，浙江蓝创光电科技有限公司，成立于2024年，位于嘉兴市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本35000万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江蓝创光电科技有限公司参与招投标项目9次，专利信息6条，此外企业还拥有行政许可14个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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