北京
国家知识产权局信息显示，奥普镀膜技术（广州）有限公司取得一项名为“一种改善滤光片面型的掩膜片及工装”的专利，授权公告号CN224313621U，申请日期为2025年7月。
专利摘要显示，本实用新型涉及光通讯领域，更具体地，涉及一种改善滤光片面型的掩膜片及工装，包括基底材料，所述基底材料由磁吸材料制成，中部设置多个相互平行的矩形狭缝，所述狭缝的总面积占基底材料面积的23％‑30％。该掩膜片设置在玻璃基片的镀膜面，使玻璃基片上镀制出间隔排列的膜层，将玻璃基片表面的应力割裂开来，阻止应力长程传递，将局部应力通过狭缝释放，从而减少整体翘曲，改善滤光片的面型。改善滤光片面型的工装则通过设置盖板，并在盖板上设置磁吸件，与掩膜片之间形成吸附力，从而将掩膜片固定在玻璃基片上，以便在玻璃基片上镀制出间隔排列的膜层，还能通过夹持作用抑制镀膜过程中的玻璃基片的瞬时变形，从而进一步改善滤光片的面型。
天眼查资料显示，奥普镀膜技术（广州）有限公司，成立于2003年，位于广州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本410万美元。通过天眼查大数据分析，奥普镀膜技术（广州）有限公司参与招投标项目4次，专利信息91条，此外企业还拥有行政许可30个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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