北京
国家知识产权局信息显示，赛诺威盛科技（北京）股份有限公司申请一项名为“基于伪影区域掩膜的信息增强方法、装置、设备和介质”的专利，公开号CN122089610A，申请日期为2026年1月。
专利摘要显示，本公开提供一种基于伪影区域掩膜的信息增强方法、装置、设备和介质，包括：将第一伪影区域掩膜和第二伪影区域掩膜进行通道拼接，生成金属伪影区域掩膜；对可操作向量应用金属伪影区域掩膜，得到金属伪影区域对应的掩膜表示向量和非金属伪影区域对应的掩膜表示向量；基于金属伪影区域对应的掩膜表示向量和不可操作向量确定伪影区域分支信息；基于非金属伪影区域对应的掩膜表示向量和不可操作向量确定非伪影区域分支信息；对伪影区域分支信息、非伪影区域分支信息和特征提取图进行多分支信息融合，得到目标伪影去除图像。从而更好地去除金属伪影。
天眼查资料显示，赛诺威盛科技（北京）股份有限公司，成立于2012年，位于北京市，是一家以从事医药制造业为主的企业。企业注册资本10506.6058万人民币。通过天眼查大数据分析，赛诺威盛科技（北京）股份有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目216次，财产线索方面有商标信息48条，专利信息264条，此外企业还拥有行政许可27个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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