北京
国家知识产权局信息显示，武汉精测电子集团股份有限公司、武汉精立微光电有限公司申请一项名为“基于二维高斯基RBF插值法的面阵色度数据多点校正方法”的专利，公开号CN122090795A，申请日期为2026年2月。
专利摘要显示，本发明涉及光电显示技术领域，提供一种基于二维高斯基RBF插值法的面阵色度数据多点校正方法，包括：获取被测面的第一色度数据阵列及被测面中M个校正点的第二色度数据；基于校正点位置构建共享一组形状参数的二维高斯基径向基函数插值模型；根据校正点处的第一色度数据阵列和第二色度数据求解各高斯基函数的权重参数；利用求解后的模型对第一色度数据阵列进行逐点校正。本发明通过自适应形状参数有效平衡了色度空间非线性变化的拟合精度与平滑度，采用多通道耦合校正方式保持了色度关系一致性，有效提升了校正精度与效率。
天眼查资料显示，武汉精测电子集团股份有限公司，成立于2006年，位于武汉市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本27974.5172万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉精测电子集团股份有限公司共对外投资了24家企业，参与招投标项目637次，财产线索方面有商标信息13条，专利信息2124条，此外企业还拥有行政许可5个。
武汉精立微光电有限公司，成立于2022年，位于武汉市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本5000万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉精立微光电有限公司专利信息109条，此外企业还拥有行政许可1个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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