北京
国家知识产权局信息显示，浙江蓝特光学股份有限公司;浙江蓝创光电科技有限公司申请一项名为“采用深度强化学习的晶圆光刻工艺参数智能优化方法”的专利，公开号CN122043880A，申请日期为2026年2月。
专利摘要显示，本发明公开了采用深度强化学习的晶圆光刻工艺参数智能优化方法，涉及晶圆光刻技术领域。该方法包括：采集待光刻晶圆的版图特征，配置曝光精度权重与曝光窗口权重；进行曝光参数优化，获得最优曝光参数及其对应的预测关键尺寸偏差与工艺窗口评分；根据优化过程中的关键尺寸偏差分布与工艺窗口评分分布，对曝光窗口权重进行调整，生成后烘保真度权重与后烘均匀性权重；进行后烘参数优化，获得最优后烘参数；最终按照最优曝光参数与最优后烘参数执行晶圆光刻。本发明通过深度强化学习实现了曝光与后烘参数的协同全局优化，能够自适应不同版图复杂度，提升了关键尺寸一致性、工艺窗口宽容度与光刻工艺的整体稳定性。
天眼查资料显示，浙江蓝特光学股份有限公司，成立于2003年，位于嘉兴市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本40589.77万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江蓝特光学股份有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目92次，财产线索方面有商标信息5条，专利信息103条，此外企业还拥有行政许可29个。
浙江蓝创光电科技有限公司，成立于2024年，位于嘉兴市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本35000万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江蓝创光电科技有限公司参与招投标项目9次，专利信息2条，此外企业还拥有行政许可7个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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